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导体工艺在0 .25um 以下 的亚微米布线的需要但却带米了其他的问题：铜与 有机介质材料的附着强度低．并且容易发生反应，导 致在使用过程中芯片的铜互连线被腐蚀而断路。为了解决以上这些问题，需要在铜与介质层之间设置阻挡 层。阻挡层材料一般采用高熔点、高电阻率的金属及其化合物，邗江****回收废旧铟锭，因此要求阻挡层厚度小于50n m，与铜及介质材料的附着性能良好。苏州ITO靶材回收，昆山ITO靶材回收，江苏ITO靶材回收。

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