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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 ：

在膜层沉积时，用于增加离子能量，广州亚克力车灯杯，****和****薄膜生长，****膜基结合力。

偏压越大离子附加能量越强，沉积过程中对膜层的轰击净化作用越明显，亚克力车灯杯定做，膜层越致密，同时颜色会越浅，亚克力车灯杯，膜层L值（亮度）会增加，显微硬度会增加、同时膜层外观粗糙度会变差，沉积过程中工件和膜层温升越大，偏压太大可能使工件变形受伤，或产生热应力崩膜。

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电子束蒸发源的优点为：①电子束轰击热源的束流密度高，能获得远比电阻加热源更大的能量密度。可以使高熔点（可高达3000°C以上）材料蒸发，并且能有较高的蒸发速度；②由于被蒸发材料是置于水冷堆锅内，因而可避免容器材料的蒸发，以及容器材料与蒸镀材料之间的反应，这对****镀膜的纯度****为重要；③热量可直接加到蒸镀材料的表面，因而热*，热传导和热辐射的损失少。