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一般来说，利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点：(1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料。(2)再适当的设定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一组成的薄膜。(3)利用放电气氛中加入氧或其它的活性气体，可以制作靶材物质与气体分子的混合物或化合物。(4)靶材输入电流及溅射时间可以控制，容易得到*的膜厚。(5)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。(6)溅射粒子几不受重力影响，靶材与基板位置可自由安排。

真空镀钛是指在真空的环境下，采用弧光放电，把阴****钛靶作为蒸发源，通过钛靶与阳****机体之间的弧光放电，使钛靶材蒸发并形成离子体，镀膜设备批发，产生的离子体高速向产品上运动，在产品表面进行沉积，形成了钛膜层。

在高真空并且高温的镀钛环境中，加入不同的气体能镀出不同的颜色。如加入N2，镀出来的颜色是金色；加入C2H2，颜色就是黑色；加入O2，颜色就会是彩色和蓝色；如加入N2和C2H2，金华镀膜设备，颜色就会是玫瑰金色。

用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴****），等离子体，和被溅零件真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵，溅射速率很小，镀膜设备供应商，同时接地技术很复杂，镀膜设备哪家好，因而难大规模采用。为解决此问题，发明了磁控反应溅射。就是用金属靶，加入*气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化，与反应气体化合生成氮化物或氧化物。