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接近式*:掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙,Gap大约为0~200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤,使掩膜和光刻胶基底能耐久使用;掩模寿命长(可提高10 倍以上),图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用较为广泛。

投影式*:在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现*。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。优点:提高了分辨率:掩膜板的制作更加容易:掩膜板上的缺陷影响减小。








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对准和*(A&E):保证器件和电路正常工作的决定性因素是图形的准确对准,以及光刻胶上*的图形尺寸的形成。所以,合川机械设备,涂好光刻胶后,合川机械,首先是把所需图形在晶圆表面上准确*或对准。第二步是通过*将图形转移到光刻胶涂层上。

显影:显影是指把掩膜版图案复到光刻胶上。

后烘(坚膜):经显影以后的胶膜发生了软化、膨胀,合川机械厂商,胶膜与硅片表面粘附力下降。为了保证下一道刻蚀工序能顺利进行,使光刻胶和晶圆表面更好地粘结,必须继续蒸发溶剂以固化光刻胶。




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