塑胶渐变加工-仁睿电子(在线咨询)-茂名塑胶渐变

真空电镀设备对镀件与镀膜层有良好的接触性能与较高的结合力，真空电镀设备热膨胀系数相差小，不起反应，流平性能好。

真空电镀设备具有良好的真空性能。底涂层固化后放气量少、热应力小、耐热性能好。真空电镀设备成膜性能好，真空电镀设备涂层的致密度、覆盖能力、*溶剂能力与耐光照能力等性能良好。真空电镀设备与面涂层有良好的相溶性。真空电镀设备由于镀膜层*薄有孔隙，茂名塑胶渐变，要求底涂层和面涂层的溶剂和稀释剂有良好的相溶性。

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作为制备电路的掩膜则用到铬膜。磁带、磁盘、半导体光学镀膜器，约瑟夫逊器件、电荷耦合器件（ CCD ）也都甬道各种光学镀膜。在显示器件方面，塑胶渐变LOGO定制，录象磁头、高密度录象带以及平面显示装置的透明导电膜、摄像管光导膜、显示管荧光屏的铝衬等也都是采用光学光学镀膜制备。

控制好系统张力，开启冷却系统，避免薄膜受热出现拉伸变形；*控制卷取速度、送铝速度及蒸发舟加热电流，以获得产品要求的铝层厚度；可预先在薄膜上涂布一定干量的底胶，并充分干燥，再经真空镀铝，可提高铝层与薄膜的结合力。而后在铝膜上涂布一定量的保护树脂，防止铝层氧化变质。经此工艺形成的镀铝薄膜，耐摩擦，且不易变质。


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