磁控溅射设备哪家好-沈阳鹏程真空技术-磁控溅射设备

光纤磁控溅射镀膜机组成

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设备用途：

在光纤表面镀制纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。配有阳*层离子源进行清洗和辅助沉积，同时设备具有反溅射清洗功能，以提高膜的质量和牢固度。样品台可镀制多种型号光纤产品

系统主要由真空室、磁控靶、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。

溅射镀膜

溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，磁控溅射设备，使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。通常，磁控溅射设备多少钱，利用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。阴*靶由镀膜材料制成，基片作为阳*，真空室中通入0.1-10Pa的气或其它惰性气体，在阴*（靶）1-3KV直流负高压或13.56MHz的射频电压作用下产生辉光放电。电离出的离子轰击靶表面，使得靶原子溅出并沉积在基片上，形成薄膜。溅射方法很多，主要有二级溅射、三级或四级溅射、磁控溅射、对靶溅射、射频溅射、偏压溅射、非对称交流射频溅射、离子束溅射以及反应溅射等。

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溅射镀膜的特点

溅射就是从靶表面撞击出原子物质的过程。溅射产生的原子或分子沉积到基体(零件)表面的过程就是溅射镀膜。

溅射镀膜与真空镀膜相比，磁控溅射设备公司，有如下特点:

1.任何物质都可以溅射， 尤其是高熔点金属、低蒸气压元素和化合物;

2.溅射薄膜与衬底的附着性好;

3.溅射镀膜的密度高，磁控溅射设备哪家好，孔少，膜层纯度高;

4.膜层厚度可控性和重复性好。

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