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洁净级别6级和7级是比较常见的,我们选用了这两个级别

通过对历年工程实例的统计,在电了厂房的设计中,洁净级别6级和7级是比较常见的,天津净化车间造价,因此我们选用了这两个级别作为本次实验的模拟环境,并区分采用过滤器和采用FFU方案,在选用外资、合资与国内品牌产品的情况,进行模拟。为了区别纷繁复杂的实际情况,我们对模拟对象进行了适当简化,实验的基本情况如下:(1)本次模拟对象为约3300平方米的普通电子洁净室。洁净室具体情况见图1和图2。(2) 终端设备采用两种方案进行设计:方案1采用过滤器;方案2采用FFUO(3) 计算范围:本次计算的工程量仅含洁净室冷冻供应系统及空调净化系统的设备及安装材料(风管、阀门、风口)等,不包括洁净室配套的土建装饰、照明、控制等费用。


净化工程行业应用有哪些?

净化工程-行业应用净化工程是一个应用行业非常广泛的基础性配套产业,目前在电子信息、半导体、光电子、精密制造、卫生、生物工程、航天航空、汽车喷涂等众多行业均有应用,并根据行业的精密与无尘要求,等级差别也较大。目前级别高的当属航天航空的航空仓,基本是属于1级,属于特殊领域,面积相对较小。 净化车间另外对级别要求较高的是生化实验室和高精纳米材料生产车间,物联网芯片的发展将是未来需求的一大方向。随着电子元器件向微小化方向发展,液晶面板已经升级至第八代,行业需求非常巨大。


洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的*度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻*工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,天津净化车间安装,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间不宜超过25度。湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时,天津净化车间,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产佳温度范围为35—45%。洁净室中的气压规定对于大部分洁净空间,为了防止外界污染*,需要保持内部的压力(静压)高于外部的压力(静压)。压力差的维持一般应符合以下原则:1.洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。2.洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力。3.相通洁净室之间的门要开向洁净度级别高的房间。压力差的维持依靠新风量,这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。所以压力差的物理意义就是漏泄(或渗透)风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。


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天津子润净化工程股份有限公司
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  • 主营行业:空气污染处理

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